博士後期課程工学専攻 Thin Nu Soeさんらの研究論文「Deposition of ternary hafnium aluminum oxide alloy thin films via single-source mist chemical vapor deposition」が、日本セラミックス協会が刊行する学術雑誌Journal of the Ceramic Society of Japan 2026年5月号のCoverに選出されました。
本研究では、ミスト化学気相成長（Mist-CVD）法を用いたハフニウムアルミネート混晶薄膜の堆積を行い、ゲート絶縁膜応用に向けた薄膜特性を評価しました。得られた薄膜は既存の原子層堆積（ALD）法と同等の良好な特性を示し、低コスト・低エネルギープロセスによるhigh-kゲート絶縁膜形成の可能性を示しました。
Cover
https://doi.org/10.2109/jcersj2.134.H5-1
論文
Deposition of ternary hafnium aluminum oxide alloy thin films via
single-source mist chemical vapor deposition
Journal of the Ceramic Society of Japan 133(5), 341-346 (2026)
Thin Nu Soe, Yusui Nakamura, Zenji Yatabe
https://doi.org/10.2109/jcersj2.25166
